Dissertation zur Erlangung des Doktorgrades des Fachbereichs Physik der Universität Hamburg.
vorgelegt von
Gerald Falkenberg
Keywords:
surface structure, morphology, roughness and topography; surface reconstruction; semiconductor surfaces; faceting; strain; high-index single chrystal surface; chemisorption; scanning tunneling microscopy; low-energy electron diffraction; reflection high-energy electron diffraction; surface X-ray diffraction; silicon; germanium; indium; lead; antimony; bismuth
html:
Kurzfassung (deutsch)
abstract (english)
Kurzfassung.html
abstract.html
postscript:
Titel, Kurzfassung und abstracttitel_abstrac.ps (103k) 0 Inhaltsverzeichnis inhalt.ps (107k)
1 Einleitung einleitung.ps 144k
2 Die Halbleiter-Oberfläche (gzipped ps) (205k)
- 2.1 Grundprinzipien der Rekonstruktion
- 2.2 Konventionen zur Bezeichnung der Rekonstruktionen
- 2.3 Facettierung von Oberflächen und Equilibrium Crystal Shape
3 Die verwendeten Meßverfahren (gzipped ps) (646k)
- 3.1 Der reziproke Raum
- 3.2 LEED
- 3.3 RHEED
- 3.4 SXRD
- 3.5 STM
- 3.5.1 Das Meßprinzip
- 3.5.2 Theoretische Beschreibung
4 Beschreibung des experimentellen Aufbaus aufbau.ps (199k)
- 4.1 Das UHV-Experiment
- 4.2 Befestigung der Proben
5 Die Ge(001)- und Si(001)-Oberflächen im Vergleich (gzipped ps) (943k)
- 5.1 Volumeneigenschaften
- 5.2 Das Dimer-Modell
- 5.3 Abbildungseigenschaften von Ge- und Si-Dimeren im STM
- 5.4 Terrassen- und Domänenstruktur
- 5.5 Die Probenpräparation
- Si(001)
- Ge(001)
6 Pb auf Ge(001)- und Si(001)-Oberflächen (gzipped ps) (3.8M)
- 6.1 Einleitung
- 6.1.1 Pb/Si(111) und Pb/Ge(111)
- 6.1.2 Pb/Si(001)
- 6.1.3 Pb/Ge(001)
- 6.2 Probenpräparation
- 6.3 Pb/Ge(001): Messungen und Diskussion
- 6.3.1 Das Präparationsdiagramm
- 6.3.2 Ge(001)(2x2)-Pb
- 6.3.3 Ge(001)c(8x4)-Pb
- 6.3.4 Substitutionelle Pb-Dimere
- 6.3.5 Ge(001)(2103)-Pb
- 6.3.6 Ge(001)c(8x4)i-Pb
- 6.3.7 Mikrofacettierung
- 6.3.8 Ge(001)(1x5)-Pb
- 6.3.9 Die Rauhe Phase
- 6.4 Pb/Si(001): Messungen und Diskussion
- 6.4.1 Die ``leichte'' c(8x4)-l Rekonstruktion und die (4x2)-Rekonstruktion
- 6.4.2 Der Bedeckungsbereich zwischen c(8x4)-l und (2x1)
7 In auf Ge(001)- und Si(001)-Oberflächen (gzipped ps) (2.4M)
- 7.1 Einleitung
- 7.1.1 (Al,Ga,In)/Si(111) und (Al,Ga,In)/Ge(111)
- 7.1.2 (Al,Ga,In)/Si(001)
- 7.1.3 (Al,Ga,In)/Ge(001)
- 7.2 Probenpräparation
- 7.3 In/Ge(001): Messungen und Diskussion
- 7.3.1 Das Präparationsdiagramm
- 7.3.2 Ge(001)(2x2$)-In
- 7.3.3 Ge(001)(3x3)+(4x3)-In und In-Cluster
- 7.3.4 Ge(001)(5x4)-In
- 7.3.5 Ge(001)(nx4)-In
- 7.4 STM- und SXRD-Messungen an Si(001)(3x4)-In
- 7.5 Strukturmodell der Ge(001)(nx4)-In Rekonstruktion
8 Sb auf Ge(001)-Oberflächen (gzipped ps) (1.4M)
- 8.1 Einleitung
- 8.1.1 (As,Sb,Bi)/Si(111) und (As,Sb,Bi)/Ge(111)
- 8.1.2 (P, As, Sb, Bi) auf Si(001)-Oberflaechen
- 8.1.3 (As,Sb,Bi)/Ge(001)
- 8.2 Probenpräparation
- 8.3 Messungen an Sb auf Ge(001) und Diskussion
- 8.3.1 Adsorption und Dissoziation von Sb_4-Molekülen
- 8.3.2 Durchmischung von Sb- und Ge-Lagen
- 8.3.3 Chemischer Kontrast auf Ge(001)(2x1)-Sb
- 8.3.4 Morphologie der vollständig Sb-terminierten Ge(001)-Oberfläche: Antiphasen- und Stressdomaenen
- 8.3.5 Sb-Verarmung
9 Facettierte Halbleiteroberflächen (gzipped ps) (3.0M)
- 9.1 Facettierung verspannter Adsorbatschichten: Ge/Si(001)
- 9.1.1 Einleitung
- 9.1.2 Überblick: Wachstum von Ge Hut-Clustern auf Si(001)
- 9.1.3 Probenpräparation
- 9.1.4 STM-Messungen
- 9.1.5 LEED-Messungen
- 9.1.6 SXRD-Messungen
- 9.2 Adsorbat-induzierte Facettierung: In/Ge(001)
- 9.2.1 Überblick: adsorbat-induzierte Facettierung von Substratoberflächen
- 9.2.2 Überblick: {103}-Facettierung von Si(001)- und Ge(001)-Oberflächen durch Al und In
- 9.2.3 Probenpräparation
- 9.2.4 Entwicklungsstadien der Facettierung
- 9.2.5 Beugung an der regelmässig facettierten Oberfläche
- LEED-Messungen
- SXRD-Messungen
- 9.2.6 Strukturmodell der {103}-facettierten Oberfläche
- 9.2.7 Abhängigkeit der Prismenbreite von der Präparation
- 9.2.8 Facettierung auf vizinalen Substraten
10 Ge(103)- und Si(103)-Oberflächen (gzipped ps) (2.4M)
- 10.1 Einleitung: hochindizierte Halbleiteroberflächen
- 10.2 Die ideale (103)-Oberfläche
- 10.3 Probenpräparation
- 10.4 Ge(103)(4x1)
- 10.5 Ge(103)(1x1)-In
- 10.6 Sb-induzierte {113}-Facettierung der Ge(103)-Oberfläche
- 10.7 Struktur der Si(103)-Oberflaeche
- 10.8 Si(103)(1x1)-In
- 10.9 Sb/Si(103) und Si(103)(1x1)-Bi
- 10.10 Vergleichende Diskussion: (III,V)/IV(103) Adsorbatsysteme
11 Zusammenfassung und Ausblick zusammenfassung.ps (118k)
Literaturverzeichnis biblio.ps (118k)