Nanotechnologische Anwendungen der Rasterkapazitätsmikroskopie und verwandter Rastersondenmethoden

Dissertation zur Erlangung des Doktorgrades des Fachbereichs Physik der Universität Hamburg.

vorgelegt von

Axel Born

Keywords:
scanning probe microscopy; scanning capacitance microscopy; scanning kelvin microscopy; scanning spreading resistance microscopy; doping profiling; failure analysis; semiconductor surfaces; silicon; high-quality silicondioxide; ultraviolett-ozon oxidation; surface charges; surface diffusion; ultra high density storage; nanotechnology;

0 Titel, Inhaltsangabe, Abstract, Inhaltsverzeichnis, Prolog part0.pdf (21k)
 
 

1 Nanotechnologie und Rastersondenmethoden part1.pdf (430k)

1.1 Nanotechnologie
 
1.2 Rastersondenmethoden
2 Nanoanalytik mit Rastersondenmethoden part2.pdf (3.628k)
2.1 Nanoanalytik von integrierten Schaltungen
 
2.2 Nanoanalytik zweidimensionaler Dotierprofile
 
2.2.1 SCM (Scanning Capacitance Microscopy)
                            2.2.1.1 Instrumentierung
                  2.2.1.2 Sonden
                            2.2.1.3 Probenpräparation
                  2.2.1.4 Dotierungs-Auflösung
                  2.2.1.5 Laterale Auflösung
                  2.2.1.6 SCM-Eichung
                  2.2.1.7 Beispiele aus der Fehleranalyse
 
2.2.2 SCS (Scanning Capacitance Spectroscopy)
 
          2.2.3 Quantitative SCM
3 Nanostrukturierung mit Rastersondenmethoden part3.pdf (630k)
3.1 Rastersondenmethoden für die Speichertechnologie
 
        3.1.1 Ultra-High-Density-Storage-Systeme
 
        3.1.2 High-Speed-Systeme
 
 
 

4 Zusammenfassung und Ausblick part4.pdf (143k)

Literaturverzeichnis, Internet-Adressen, Anhang (Höchstempfindliche Kapazitätssensoren, Abkürzungsverzeichnis, Veröffentlichungen und Präsentationen, Danksagung)